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高方阻AZO透明导电薄膜的制备和光电特性

中文会议: 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集

会议日期: 2008-11-30

会议地点: 广州

主办单位: 中国电子学会,广州市科协

出版方 : 中国电子学会半导体与集成技术分会、电子材料分会

作  者: ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 深圳大学材料学院

出  处: 《第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》

摘  要: 采用磁控溅射法,在硅和玻璃基片上制备了AZO(ZNO:AL)透明导电薄膜。通过X射线衍射仪、紫外/可见光分光光度计、荧光光谱仪和四极探针等仪器,研究了AL浓度对薄膜的微观结构和光电特性的影响。研究结果表明:AZO薄膜为纤锌矿结构且呈C轴择优取向,随着AL浓度的增加,(002)衍射峰强度逐渐减弱;在掺AL浓度小于4WT%时,薄膜在可见光范围内的平均透射率大于80%,方块电阻最小值达到514Ω/□,热稳定性小于20%;在室温下,观察到近带边发光蜂和绿光发光带。

关 键 词: 光电特性 磁控溅射法 导电薄膜 透明薄膜 微观结构

领  域: [一般工业技术]

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