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ALXGA1-XN/GAN异质结中的RASHBA自旋劈裂

中文会议: 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集

会议日期: 2008-11-30

会议地点: 广州

主办单位: 中国电子学会,广州市科协

作  者: ; ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 南京大学物理学院江苏省光电信息功能材料重点实验室

出  处: 《第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》

摘  要: 通过自恰求解薛定谔方程和泊松方程,可以得到沿C轴生长的ALXGA1-XN/GAN异质结中的导带底的形状,同时得出电子分布以及所有束缚态。我们发现电子占据前两个子带并且得到可观的第一、二了带RASHBA自旋劈裂(在费米能级处)。我们研究了RASHBA自旋劈裂随AL组分变化关系,并且讨论了电子对第二子带的战据对第一子带RASHBA劈裂的影响。结果表明,RASHBA自旋劈裂随AL组分增加很快,说明由压电极化和自发极化导致的内建电场对RASHBA自旋劈裂至关重要。这些结果可能对自旋电子器件的设计有重要意义。

关 键 词: 自旋劈裂 压电极化 自发极化 自恰计算 异质结 薛定谔方程 泊松方程

分 类 号: [T]

领  域: [一般工业技术]

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