中文会议： 2009年全国信息光学与光子器件学术会议论文集

会议日期： 2009-06-01

会议地点： 青岛

主办单位： 中国光学学会,中科院上海光学精密机械研究所

作　　者： ; ; ; (孔强）;

机构地区： 南开大学电子信息与光学工程学院光电信息技术科学教育部重点实验室

出　　处： 《2009年全国信息光学与光子器件学术会议》

摘　　要： 离轴非球面元件的应用可以使光学系统在成像质量和轻量化程度上得到最大限度的提高。但最接近球面以及研磨去除量的求解仍然是加工环节中极为重要的问题,为此,提出了一种同时考虑研磨去除量最小准则和研磨变化量要求的最接近球面及研磨去除量的求解方法,可适用于二次及高次离轴非球面最接近球面及研磨去除量的精确求解,具有普遍意义。通过编程实例计算了最接近球面的半径、最大研磨去除量和研磨去除总量,与经验公式计算结果的比较表明了该方法求解结果的优势,同时离轴非球面加工中的实际应用也证明了该方法的正确性。该方法的提出对离轴非球面加工具有一定的理论和实际指导意义。

关 键 词： 离轴非球面 研磨去除量 非球面加工 光学系统 成像质量

分 类 号： [T]

领　　域： [一般工业技术]