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磁控溅射制备TBFECO薄膜及其光学和磁光性质研究

中文会议: 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ

会议日期: 2004-09-12

会议地点: 秦皇岛

主办单位: 中国仪器仪表协会,中国金属学会,中国稀土协会,中国复合材料学会,中国有色金属协会

作  者: ; ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 复旦大学

出  处: 《第五届中国功能材料及其应用学术会议》

摘  要: 采用放电等离子烧结(SPS)TBFECO合金靶,分别在SI衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TBFECO/SI和TBFECO/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光KERR谱仪,在室温下分别测量了TBFECO薄膜的极向KERR回线和横向KERR回线,发现所制备TBFECO薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.

关 键 词: 放电等离子烧结 磁光薄膜 椭偏光谱 磁光 效应 薄膜 磁控溅射

分 类 号: [T]

领  域: [一般工业技术]

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机构 华南师范大学

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