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用磁过滤MEVVA源注入和离子沉积技术合成优化表面层研究

中文会议: '2000国际表面工程与防腐蚀技术研讨会-21世纪表面工程与防腐蚀技术的发展与应用论文集

会议日期: 2000-09-04

会议地点: 上海

主办单位: 中国腐蚀与防护学会

作  者: ; ;

机构地区: 北京师范大学

出  处: 《'2000国际表面工程与防腐蚀技术研讨会》

摘  要: 采用金属离子束磁过滤技术对引出金属离子束中大颗粒离子进行过滤后,再在金属表面、硅和聚合物表面进行离子注入和低能离子束沉积,可获得特性优异的沉积金属膜、超硬膜(类金刚石,CN膜)、陶瓷膜(TN,TC等)。电子显微镜观察表明,大颗粒已被过滤,表面结构致密。由于先进行离子注入,在基体表面预先形成了过度层,从而改善了沉积膜的粘合特性,用划痕仪测量表明,镀膜与基体的粘合特性有了明显的提高。测量结果表明,沉积膜的硬度、抗磨损和抗腐蚀特性均有了明显地提高。

关 键 词: 防腐方法 离子注入 表面改性 磁过滤 离子沉积

分 类 号: [T]

领  域: [一般工业技术]

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