中文会议： 第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集

会议日期： 2010-10-15

会议地点： 长沙

主办单位： 中国仪器仪表学会,中国金属学会

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 广东工业大学物理与光电工程学院

出　　处： 《第七届中国功能材料及其应用学术会议》

摘　　要： 首先采用固相反应法制备NIFE2O4溅射靶材,利用射频磁控溅射法在SI(100)基片上制备了NIFE2O4铁磁薄膜,并且研究了溅射气氛对薄膜性能的影响,溅射气氛包括AR和O2／AR混合气体。结果表明,在两种不同气氛中沉积的薄膜样品都呈立方尖晶石结构,通入少量氧气之后,薄膜择优取向发生改变,并且磁性能得到改善,饱和磁化强度(MS)为50EMU／CM3。

领　　域： [电气工程] [一般工业技术] [理学] [理学]