中文会议： 第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集

会议日期： 2001-10-01

会议地点： 厦门

主办单位： 中国仪器仪表学会

出版方 ： 中国仪器仪表学会

出版日期： 2001-10-01

出版地： 北京

作　　者： ; ; ;

机构地区： 电子科技大学

出　　处： 《第四届中国功能材料及其应用学术会议》

摘　　要： 用微波等离子化学气相沉积法(MPCVD)在无氧铜基底上沉积微晶金刚石制作场发射冷阴极阵列(FEA),研究场致发射特性和金刚石与铜基底之间的欧姆接触特性.研究结果表明:在3.45MV/m电场强度下可获得100mA/cm<''2>的发射电流密度,所发射的电子轰击荧光屏能产生明亮的荧光.通过微晶金刚石在铜基底上的嵌布从而实现了金刚石与铜基底之间的低欧姆接触.

关 键 词： 场发射 金刚石薄膜 负电特性 铜基底 欧姆接触 电子发射材料

分 类 号： [TN304.055 TB383]

领　　域： [电子电信] [一般工业技术]