中文会议：
第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议论文集
会议日期：
2001-04-12
会议地点：
昆明
主办单位：
中国电子学会
出版方 ：
中国电子学会
出版日期：
2001-04-12
出版地：
北京
作 者：
;
;
;
;
;
;
;
;
;
机构地区：
清华大学
出 处：
《第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议》
摘 要：
本文扼要介绍统计过程控制在集成电路生产中应用,对理论的经验和控制图做了比较,详细介绍了层别法和散布图相结合研究改善IC生产工艺,减少产品某些特性的离散率应用工作.
关 键 词：
集成电路
生产工艺
统计技术
控制图
领 域：
[电子电信]
