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先进的光学压力测量技术

中文会议: 新世纪力学研讨会——钱学森技术科学思想的回顾与展望论文集

会议日期: 2001-11-19

会议地点: 北京

主办单位: 中国力学学会;中国空气动力学会;中国航空学会

出版方 : 国防工业出版社

出版日期: 2001-11-01

出版地: 北京

作  者: ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 中国科学院化学研究所

出  处: 《新世纪力学研讨会——钱学森技术科学思想的回顾与展望》

摘  要: 介绍了国外在光学压力测量技术研究方面的最新进展及中国航空工业空气动力研究院(沈阳)使用该技术的情况,展示了我国在该技术领域研究应用的前景.

关 键 词: 光学压力测量 压力敏感涂料 荧光压力传感器 风洞实验

分 类 号: [V211.71]

领  域: [航空宇航科学与技术] [航空宇航科学技术]

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作者 张鼎华