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TiO<,2>薄膜制备过程中基片温度对薄膜结构和光学性能的影响

中文会议: 全国新材料及其应用学术会议论文集

会议日期: 2003-11-12

会议地点: 江阴

主办单位: 中国金属学会

出版日期: 2003-11-01

出版地: 北京

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 广东工业大学

出  处: 《全国新材料及其应用学术会议》

摘  要: 近年来TiO<,2>功能薄膜以其奇异的性能优异的光催化性能引起研究人员的广泛关注.本文结合TiO<,2>的结构和性质,探讨基片温度对薄膜结构和光学性能的影响.

关 键 词: 薄膜 薄膜制备 基片温度 薄膜结构 光学性能

领  域: [一般工业技术]

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