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文献详细Journal detailed

多重全息存储中曝光均匀性的研究

中文会议: 激光杂志

会议日期: 1999-06-30

会议地点: 昆明

主办单位: 中国光学学会

出版方 : 激光杂志编委会

出版日期: 1999-05-31

出版地: 重庆

作  者: ; ; ; ;

机构地区: 佛山大学

出  处: 《中国光学学会全息专业委会年会》

摘  要: 该文分析了光折变晶多得全息存储中扇形效应对光栅写入时间常数的影响和写入光耦合对光栅振幅的影响,给出了两种因素影响下角度编码多重全新存储中时间递减曝光法的计算公式和方法,该计算公式和通常的有所不同。数值计算结果表明,按照这种计算方法所得多重存储中各幅全息光栅振幅不仅均匀性好,而且振幅也相对较大,这种曝光方法有利于提高晶体的存储容量。

关 键 词: 时间递减法 多重全息存储 扇形效应 光耦合

领  域: [机械工程] [理学] [理学]

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