中文会议: 中国稀土学报/专辑
会议日期: 2004-08-01
会议地点: 郑州
主办单位: 中国金属学会;中国有色金属学会;中国稀土学会
出版日期: 2004-08-01
出版地: 北京
机构地区: 中山大学化学与化学工程学院
出 处: 《2004年全国冶金物理化学学术会议》
摘 要: 利用恒电位沉积、循环电位沉积和脉冲电沉积法在DMSO体系中在铜基体上探讨了Eu-Co-Ni合金薄膜的制备.实验结果表明,在0.10mol/LEuCl<,3>-0.10mol/LCoCl<,2>-0.10mol/LNiCl<,2>-0.10mol/LLiClO<,4>-DMSO体系中,恒电位沉积技术制备出的Eu-Co-Ni合金膜表面较为粗糙,其中Eu含量为5.46~6.01wt﹪,脉冲电沉积技术制备的Eu-Co-Ni合金膜表面平整,致密、附着力好,且有金属光泽,其中Eu含量为6.76﹪,循环电位扫描技术制备的Eu-Co-Ni合金膜表面平整,致密,附着力好,其中Eu含量为12.43﹪.通过XRD证明所得的合金薄膜为非晶态.
关 键 词: 稀土 循环电位沉积 二甲基亚砜 合金薄膜 电化学制备
分 类 号: [TF111.5 TG131]