中文会议： 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集

会议日期： 2004-05-27

会议地点： 天津

主办单位： 中国物理学会；中国电子学会

出版日期： 2004-05-27

出版地： 北京

作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 复旦大学

出　　处： 《第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议》

摘　　要： 在衬底(Si)/Ta/Co/Cu/Co/FeMn/Ta自旋阀中,随着铜层和铁磁层厚度的增加,GMR先增加后逐渐减少,存在最大值.实验发现自旋阀的GMR对底部铁磁层厚度的变化更加敏感,实验发现这是由于薄膜粗糙度强烈影响自旋阀的GMR.

关 键 词： 粗糙度 自旋阀 巨磁电阻

分 类 号： [TB34]

领　　域： [一般工业技术]