中文会议：
中国第七届光伏会议论文集
会议日期：
2002-10-23
会议地点：
杭州
主办单位：
中国太阳能学会
作 者：
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(胡芸菲）;
机构地区：
华南理工大学材料科学与工程学院
出 处：
《中国第七届光伏会议》
摘 要：
以多晶硅片为衬底,在快热化学气相沉积(RTCVD)设备上,通过外延生长的方式制得多晶硅薄膜,并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等测试手段对薄膜的形貌结构及成分进行分析.
关 键 词：
多晶硅薄膜
化学气相沉积
颗粒硅带
外延生长
薄膜制备
形貌结构
领 域：
[电子电信]
