中文会议： 现代表面工程技术

会议日期： 2002-08-01

会议地点： 太原

主办单位： 中国机械工程学会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 北京师范大学核科学与技术学院低能核物理研究所

出　　处： 《第二届表面工程技术产业化学术交流会》

摘　　要： Mevva离子源具有束流强、离子种类多、引出电压高以及多孔大面积引出的特点,Mevva强流金属离子注入被誉为新一代的离子注入技术.本文简介了Mevva ⅡA-H源离子注入机研究了几种不同情况下的注入均匀性.

关 键 词： 离子注入 离子源 离子注入机 注入均匀性

分 类 号： [TG]

领　　域： [金属学及工艺]