可检索词： （英文）题名=T 作者=A 关键词=K 摘要=R 机构=O 主题=S 刊名=M 分类号=N
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中文会议： 第十一届全国磁学和磁性材料会议论文集
会议日期： 2002-11-05
会议地点： 长沙
主办单位： 中国电子学会
作 者： ; ; ; ;
机构地区： 天津大学理学院物理系
出 处： 《第十一届全国磁学和磁性材料会议》
摘 要： 本文利用对向靶直流磁控溅射制备Fe-N膜,并对其时间稳定性进行了跟踪实验.结果表明,制备的Fe-N膜在室温条件下放置半年以上,其膜的成分及各相含量基本未变.
关 键 词： 铁氮化合物 薄膜 时效 磁控溅射法
领 域： [理学]
