中文会议： 中国真空学会薄膜技术学术研讨会真空科学与技术学报

会议日期： 2003-09-14

会议地点： 宁波

主办单位： 中国真空学会

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室

出　　处： 《中国真空学会薄膜技术学术研讨会》

摘　　要： 本文综述了国内外脉冲工艺在电弧离子镀和磁控溅射中的应用.脉冲工艺为电弧离子镀净化大颗粒、增强膜基结合力、改善组织形貌、降低沉积温度等起到了重要作用.电弧或溅射离子镀高的离化率为脉冲工艺提供了最好的应用条件.最后,对脉动工艺在薄膜制备中的应用前景进行了展望.

关 键 词： 电弧离子镀 脉冲工艺 低温沉积 磁控溅射

领　　域： [理学]