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硅衬底上的铁电薄膜生长技术的研究进展

中文会议: 第五届全国夜视技术交流会暨2005年全国瞬态光学与光子技术交流会会议论文集

会议日期: 2005-10-01

会议地点: 云南西双版纳

主办单位: 中国兵工学会

作  者: ; ; ; ; ; ;

机构地区: 昆明物理研究所

出  处: 《第五届全国夜视技术交流会暨2005年全国瞬态光学与光电子技术交流会》

摘  要: 铁电薄膜具有良好的热释电性、压电性、电光及非线性光学特性,在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上新型功能材料研究的热点之一.本文综述了近年来铁电薄膜及其制备技术研究进展,对比了铁电薄膜的主要制备技术的优缺点,指出了目前亟待解决的一些问题。

关 键 词: 硅衬底 铁电薄膜 制备技术 非线性光学

分 类 号: [TM]

领  域: [电气工程]

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