中文会议： 第七届广东省真空学会学术研讨会

会议日期： 2005-11-01

会议地点： 广东肇庆

主办单位： 中国真空学会

作　　者： ; ; ;

机构地区： 华南理工大学电子与信息学院

出　　处： 《第七届广东省真空学会学术研讨会》

摘　　要： 本文首先回顾了ALD发展历史,介绍了ALD的基本工艺和ALD薄膜具有的优良特性,并与传统的薄膜制备工艺进行了对比研究.重点阐述了ALD在微电子技术、微电子机械系统以及光学工程中的几个应用研究现状.分析了ALD目前存在的问题,并对ALD未来的发展进行了展望。

关 键 词： 原子层沉积 自限制 化学气相沉积 物理气相沉积 原子层镀膜 微电子机械系统

分 类 号： [TN]

领　　域： [电子电信]