中文会议： 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集

会议日期： 2005-07-14

会议地点： 沈阳

主办单位： 中国真空学会

作　　者： ; ;

机构地区： 中国科学院金属研究所

出　　处： 《2005’全国真空冶金与表面工程学术会议》

摘　　要： 本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制，并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。

关 键 词： 电弧离子镀 脉冲偏压 气相沉积镀膜

分 类 号： [TG]

领　　域： [金属学及工艺]