可检索词： （英文）题名=T 作者=A 关键词=K 摘要=R 机构=O 主题=S 刊名=M 分类号=N
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中文会议： 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
会议日期： 2005-07-14
会议地点： 沈阳
主办单位： 中国真空学会
作 者： ; ; ; ;
机构地区： 东北大学
出 处： 《2005’全国真空冶金与表面工程学术会议》
摘 要： 本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法；综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状；对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。
关 键 词： 薄膜 氮化铝 电致发光 发光性能
领 域： [电子电信]
