中文会议： 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集

会议日期： 2005-07-14

会议地点： 沈阳

主办单位： 中国真空学会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 东北大学

出　　处： 《2005’全国真空冶金与表面工程学术会议》

摘　　要： 本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质，应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动，通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。

关 键 词： 二氧化钛薄膜 直流反应 磁控溅射 温度 反射率 光学性质

领　　域： [一般工业技术]