中文会议： 第三届全国微全分析系统学术会议论文集

会议日期： 2005-10-10

会议地点： 武汉

主办单位： 中国化学会

出版方 ： 中国化学会、国家自然科学基金委化学部

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系

出　　处： 《第三届全国微全分析系统学术会议》

摘　　要： 本文采用三层光刻工艺制作了基于PDMS的微型分流器.引入牺牲层技术,解决了不同胶层间的界面互融问题,讨论了不同胶层间显影液对图形质量的影响.所制得的分流器工艺简单,结构形貌良好,具有良好的微流控制作用,满足器件使用要求.

关 键 词： 分流器 牺牲层技术 光刻工艺 微流控制

分 类 号： [O]

领　　域： [理学]