中文会议: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
会议日期: 2006-09-01
会议地点: 北京
主办单位: 中国材料研究学会
机构地区: 广东工业大学
摘 要: 本文对采用真空电弧沉积法所制备的TiO2-xNx光催化剂,在空气气氛中进行了热处理,以XRD分析TiO2-xNx薄膜的晶相结构随热处理温度及时间的变化情况,同时用UV-vis分光光度计分析TiO2-xNx薄膜的UV-vis光谱随热处理温度的变化规律.以酸性品红的光催化降解反应评价TiO2-xNx薄膜可见光催化剂活性,分析了热处理作用条件下,TiO2-xNx可见光催化活性的变化规律.研究结果表明,随热处理温度的升高,吸收边缘向长波方向移动.在500℃热处理条件下,TiO2-xNx薄膜的晶相结构为锐钛矿相,TiO2-xNx薄膜具有较好的可见光催化活性.
关 键 词: 掺氮 薄膜 热处理 晶体结构 光学性能 光催化活性
分 类 号: [TN]
领 域: [电子电信]