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热处理对真空电弧沉积TiO2-xNx薄膜结构及可见光催化活性的影响

中文会议: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会

会议日期: 2006-09-01

会议地点: 北京

主办单位: 中国材料研究学会

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 广东工业大学

出  处: 《2006北京国际材料周暨中国材料研讨会》

摘  要: 本文对采用真空电弧沉积法所制备的TiO2-xNx光催化剂,在空气气氛中进行了热处理,以XRD分析TiO2-xNx薄膜的晶相结构随热处理温度及时间的变化情况,同时用UV-vis分光光度计分析TiO2-xNx薄膜的UV-vis光谱随热处理温度的变化规律.以酸性品红的光催化降解反应评价TiO2-xNx薄膜可见光催化剂活性,分析了热处理作用条件下,TiO2-xNx可见光催化活性的变化规律.研究结果表明,随热处理温度的升高,吸收边缘向长波方向移动.在500℃热处理条件下,TiO2-xNx薄膜的晶相结构为锐钛矿相,TiO2-xNx薄膜具有较好的可见光催化活性.

关 键 词: 掺氮 薄膜 热处理 晶体结构 光学性能 光催化活性

分 类 号: [TN]

领  域: [电子电信]

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相关机构对象

机构 中山大学化学与化学工程学院
机构 中山大学生命科学学院生物系

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