中文会议： 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集

会议日期： 2006-10-14

会议地点： 武汉

主办单位： 中国物理学会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 北京师范大学

出　　处： 《2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议》

摘　　要： 提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键.为此开展了100型MEVVA源注入机大批量注入均匀性的研究.本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,研究了靶盘公转自转、0°定位自转、45°定位自转的注入离子浓度分布.之后通过对几种注入方式的拟合计算来确定复合注入的注入比例.最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的复合注入,得到了相当均匀的注入效果.

关 键 词： 离子源注入机 金属蒸汽真空弧 离子注入 注入均匀性 定位自转

分 类 号： [TL]

领　　域： [核科学技术]