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HWE生长条件对CdTe/Si薄膜结构特性的影响

中文会议: 中国太阳能光伏进展

会议日期: 2006-11-01

会议地点: 成都

主办单位: 中国可再生能源学会

作  者: ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 中国农业大学水利与土木工程学院

出  处: 《第九届中国太阳能光伏会议》

摘  要: 本文研究了热壁外延生长条件对Si(100)衬底上沉积外延的多晶CdTe薄膜的晶粒尺寸和取向的影响.用SEM和XRD技术分析了不同外延时间、不同衬底温度及不同源温下外延膜的表面形貌和结构特征.SEM发现随着外延时间的增加或衬底温度的提高,晶粒尺寸明显增大;XRD显示所有的外延薄膜均为面心立方结构,并高度显示优势取向(111),且随着衬底温度或薄膜厚度的增加,(111)蜂的衍射强度增加.通过对不同外延时间下薄膜厚度的测试发现,薄膜具有加速生长趋势.

关 键 词: 热壁外延 生长条件 薄膜 结构特性

领  域: [电子电信]

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