中文会议： TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文集

会议日期： 2007-08-01

会议地点： 兰州

主办单位： 中国真空学会

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室

出　　处： 《TFC'07全国薄膜技术学术研讨会》

摘　　要： 本文对脉冲偏压电弧离子镀基础问题进行了研究。结果表明，把脉冲偏压引入电弧离子镀工艺保持了其原有的高离化率、高沉积速率、成膜致密等优点，与传统的直流偏压相比，脉冲偏压引入频率和占空比两个控制变量，对成膜过程有更好的可控性，

关 键 词： 离子镀层 离子沉积 脉冲偏压 离子镀工艺

分 类 号： [TG]

领　　域： [金属学及工艺]