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基于EBSD技术对Ni5W/Ni12W/Ni5W合金复合基带微取向的研究

中文会议: 第二届全国电子背散射衍射技术及其应用会议论文集

会议日期: 2007-08-20

会议地点: 内蒙古包头

主办单位: 中国体视学学会

作  者: ; ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室

出  处: 《第二届全国电子背散射衍射技术及其应用会议》

摘  要: EBSD技术是对材料微取向信息进行表征的一种重要测试和分析手段。采用该技术,对大冷轧变形量、再结晶退火后的Ni-W复合基带的表面和截面微取向进行了表征,对其晶粒取向、晶界特征等信息进行采集和分析。经Orientation Imaging Microscopy<'TM>(OIM)4.6软件分析,结果表明该Ni基复合基带表面10°以内立方织构晶粒百分含量为97.9%;微取向差在10°以内的小角度晶界的含量达到85.4%。此外,通过对具有多层结构的复合基带截面微取向图的分析表明,内外层不同材料再结晶温度的差异是保证复合基带表面能够形成锐利立方织构的主要原因。

关 键 词: 技术 合金复合基带 立方织构 小角度晶界 截面微取向图

领  域: [电气工程]

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