中文会议： 第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议日期： 2007-11-15

会议地点： 武汉

主办单位： 中国仪器仪表学会

出版方 ： 重庆仪器材料研究所、中国仪器仪表学会仪表材料分会、国家仪表功能材料工程技术研究中心

作　　者： ; ; ;

机构地区： 广东工业大学材料与能源学院

出　　处： 《第六届中国功能材料及其应用学术会议》

摘　　要： 采用直流磁控反应溅射技术,在不同的Ar/O2比条件下制备了系列Ta2O5薄膜样品,采用紫外-可见光透射光谱和椭偏光谱测试分析技术,研究了Ta2O5薄膜在可见光范围内的透射率、折射率和消光系数；同时还采用HP 4192A阻抗分析仪测试分析了样品在500Hz～13MHz频段的介电谱,结果表明在300～700nm的可见光波长范围内,氧化钽薄膜的消光系数k→0,折射率n＞2.0,透射率大约80％。500Hz下的低频介电常数ε的典型值为20.1.损耗角正切tgδ为19.9.

关 键 词： 氧化钽薄膜 磁控反应溅射 光学性质 介电谱

领　　域： [电子电信]