中文会议： 第十二届全国电介质物理、材料与应用学术研讨会论文集

会议日期： 2008-04-01

会议地点： 西安

主办单位： 中国物理学会

作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 四川大学材料科学与工程学院

出　　处： 《第十二届全国电介质物理、材料与应用学术研讨会》

摘　　要： 本研究采用化学溶液沉积技术，在室温和近室温条件下制备出钼酸锶薄膜。借助X-射线衍射对钼酸锶薄膜的结构进行了分析，用原子力显微镜观察了薄膜的形貌，并估计了薄膜晶粒的尺寸。测试结果表明：利用化学溶液法，在室温(25℃)和近室温(40℃)的条件下得到了四方相的钼酸锶多晶薄膜;形貌分析的结果表明低温制备的钼酸锶薄膜致密，无明显裂痕，晶粒出现团聚现象，尺寸在纳米尺度范围，约为60～80nm。不同溶剂制得的薄膜在低温下并没有表现出明显的溶剂差异。

关 键 词： 多晶薄膜 薄膜制备 钼酸锶薄膜 化学沉积

领　　域： [电子电信]