中文会议: 第六届电子产品防护技术研讨会论文集
会议日期: 2008-06-01
会议地点: 贵州安顺
主办单位: 中国电子学会
机构地区: 华南理工大学
出 处: 《第六届电子产品防护技术研讨会》
摘 要: 本文主要对多位翻转(MBU)的产生模式和影响因素及加固进行了介绍,首先对各种不同粒子产生MBU的模式进行说明,然后对几种影响MBU产生的因素进行非常详细的分析,最后列举了两种抗MBU方法.在对MBU的研究中发现,随着器件特征尺寸的不断缩小,特别是器件进入深亚微米阶段,MBU对器件及电路的可靠性影响越大.
关 键 词: 多位翻转 敏感体积法 单粒子单位翻转 加固处理 电子器件 可靠性
分 类 号: [TN]
领 域: [电子电信]