中文会议： 第十四届中国有机硅学术交流会论文集

会议日期： 2008-09-01

会议地点： 杭州

主办单位： 中国氟硅有机材料工业协会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 杭州师范大学材料与化学化工学院有机硅化学及材料技术教育部重点实验室

出　　处： 《第十四届中国有机硅学术交流会》

摘　　要： 本文利用含氢聚硅氧烷中的Si-H键在2172cm-1处的吸收峰,选择四甲基四氢环四硅氧烷作为模型化合物,建立了红外光谱法测定含氢聚硅氧烷中含氢量的方法.

关 键 词： 红外光谱法 定量分析 含氢聚硅氧烷

分 类 号： [TQ]

领　　域： [化学工程]