中文会议： 第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集

会议日期： 2008-04-01

会议地点： 武汉

主办单位： 中国机械工程学会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院

出　　处： 《第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛》

摘　　要： 采用直流磁控溅射在Si(100)基体上制备了La-Sr-Mn-O薄膜,溅射气体为Ar和O2的混合气体,沉积后对薄膜进行700℃/1h空气退火。本文研究了不同工艺参数条件下制备的薄膜的结构、金属-绝缘体转变和可变发射率特性,结果表明O2/(O2+Ar)体积比较小时,薄膜的金属-绝缘体转变温度TMI高,发射率变化量((H增大,最大的((H可达0.35。薄膜发射率(H(T)随温度升高而增大,并且在TMI附近发生显著变化,此时薄膜由低发射率的金属态转变为高发射率的绝缘态。

关 键 词： 磁控溅射 薄膜结构 金属 绝缘体转变 可变发射率

分 类 号： [TG]

领　　域： [金属学及工艺]