中文会议： 2008年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术会议暨第十次全国高分子液晶态与超分子有序结构学术论文报告会论文集

会议日期： 2008-07-13

会议地点： 长春

主办单位： 中国化学会

作　　者： ; ; (汪大洋）;

机构地区： 吉林大学化学学院超分子结构与材料国家重点实验室

出　　处： 《2008年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术会议暨第十次全国高分子液晶态与超分子有序结构学术论文报告会》

摘　　要： 许多现代技术发展的机会都来源于新型微观结构的成功构造和集成，在微观和介观范围内对材料表面结构和性质的微加工或图案化在当代科学和技术相关领域逐渐受到越来越多的关注. 本文通过二维有序胶体晶体制备和加工技术，制备具有图案化结构的胶体晶体，利用刻蚀形成利于图案化的具有独特结构的胶体晶体.通过对胶体晶体模板的制备和微加工过程的控制，建立胶体晶体的结构化特点与所形成图案的关系.在气相沉积过程中对人射角度和胶体晶体的方位角度进行调控，讨论这些条件的变化对在基材上形成的图案的影响，以及它们的边界条件.

关 键 词： 胶体刻蚀 胶体晶体 有序结构 图案化 微观结构 表面结构 气相沉积

领　　域： [理学]