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文献详细Journal detailed

Al0.245Ga0.755N/GaN异质结和Ni/Au肖特基接触间插入薄铝层的肖特基结的漏电机制

中文会议: 第十七届全国半导体物理学术会议论文集

会议日期: 2009-08-16

会议地点: 长春

主办单位: 中国物理学会

作  者: ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 天津大学精密仪器与光电子工程学院

出  处: 《第十七届全国半导体物理学术会议》

摘  要: @@引言: 目前GaN基HEMT器件中肖特基的反向漏电仍然是制约GaN基HEMT器件发展的一个瓶颈。本文在Ni/Au栅和Al0.245Ga0.755N/GaN异质结间插入了3nm的薄铝层,并对这种新型肖特基结和传统Ni/Au肖特基结伏安特性和高温反偏漏电机制做了比较,结果表明铝薄层的插入明显改善了肖特基结常温和高温的伏安特性

领  域: [电子电信] [电子电信]

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