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喷射型电感耦合等离子体化学气相沉积法制备的微晶硅薄膜孵化层的演化

中文会议: 第十七届全国半导体物理学术会议论文集

会议日期: 2009-08-16

会议地点: 长春

主办单位: 中国物理学会

作  者: ; ; ; ; ; ; ; ; ;

机构地区: 南京大学物理学院物理学系

出  处: 《第十七届全国半导体物理学术会议》

摘  要: @@氢化微晶硅薄膜由于在薄膜太阳电池中的应用潜力而受到人们的普遍关注。但是传统的化学气相沉积等方法制各的微晶硅薄膜存在一些不足:如薄膜生长速率较低;而且沿薄膜生长方向存在较为严重的结构不均匀性,尤其是当薄膜沉积在非晶衬底上时,薄膜与衬底界面处难以避免地形成一层非晶过渡层,即所谓的孵化层。孵化层的存在增大了器件内阻从而对器件载流子输运影响较大。

领  域: [理学] [理学] [化学工程]

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