中文会议： 第二十八届全国化学与物理电源学术年会论文集

会议日期： 2009-11-19

会议地点： 广东广州

出版方 ： 中国电子学会化学与物理电源技术分会、中国电工技术学会氢能发电装置专业委员会、中国电工技术学会电池专业委员会、中国化学与物理电源行业协会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 华南师范大学化学与环境学院

出　　处： 《第二十八届全国化学与物理电源学术年会》

摘　　要： 研究了冶金级硅粉经湿法氧化后,再经氢氟酸处理,Fe、Al、Ca、Ti、Cu等主要金属杂质含量的变化,并与干法氧化进行了对比。实验结果表明,湿法氧化对主要杂质的去除率要优于干法氧化。实验同时研究了湿法氧化后酸洗浓度、酸洗时间对金属杂质去除效果的影响。

关 键 词： 湿法氧化 干法氧化 冶金级硅 金属杂质

分 类 号： [TM914.4]

领　　域： [电气工程]