中文会议： 第二届中国功能材料及其应用学术会议论文集

会议日期： 1995-10-23

会议地点： 四川成都

出版方 ： 中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会材料科学学会、中国物理学会发光分会、中国光学学会薄膜专业委员会、机械工业部重庆仪表材料研究所、《功能材料》编辑部、大连理工大学、中国科技大学、北京科技大学、吉林大学、东北大学、中国科学院上海冶金研究所、中国科学院半导体研究所、北京大学、清华大学、南京大学、华中理工大学、武汉工业大学、电子科技大学、四川联合大学、西北工业大学、北京工业大学、东南大学、青岛化工学院、北京航空航天大学、山东工业大学

作　　者： ; ; ; (冯碧光）; (刘兴诚）; (匡同春）; (张宁）; (刘正义）;

机构地区： 广州有色金属研究院

出　　处： 《第二届中国功能材料及其应用学术会议》

摘　　要： 本文研究了用直流等离子射流化学气相沉积法在硬质合金基体上沉积的金刚石膜的形貌、纯度、内应力随甲烷浓度、沉积气压和沉积功率的关系。实验结果表明:在较低的CH4浓度（1—2）%,相对高的气压8KPa—13KPa下可获得晶粒细小、纯度较高的金刚石膜。膜内应力为压应力,大小在1～3GPa范围内。

关 键 词： 直流等离子射流化学气相沉积 金刚石膜 硬质合金 残余应力

分 类 号： [TG711]

领　　域： [金属学及工艺]