导　　师： 王跃川

学科专业： H0502

授予学位： 博士

作　　者： ;

机构地区： 四川大学

摘　　要： 该论文是关于高支化碱溶性感光聚合物的合成及其抗蚀剂在连续深浮雕微光学元件加工中的应用研究.设计了用偏苯三酸酐(ta),环氧氯丙烷(ech)合成高支化碱溶性聚酯、利用聚酯末端的羧基与甲基丙烯酸缩水甘油酯(gma)反应得到高支化碱溶性感光聚合物的路线.通过改变反应物配比,引入光敏剂结构及官能化环氧进行改性合成了不同感光特性的聚合物.在偏苯三酸酐与环氧氯丙烷反应体系中羧基与环氧基、羟基与酸酐是两个主要反应,它们闪替进行生成高支化碱溶性聚酯,而羧基与仲羟基、羧基与氯甲基可能导致分子间交联的付反应,以及仲羟基与环氧基的付反应在聚合反应条件下均不明显.ir、<'1>h-nmr、<'13>c-nmr分析表明合成产物与设计结构一致.通过残膜率-曝光能量曲线表征了高支化碱溶性感光聚合物及其抗蚀剂的感光特性.研究了高支化碱溶性感光聚合物及其抗蚀剂深度线性范围的变化.

关 键 词： 高支化聚合物 丙烯酸聚酯 光固化 光致抗蚀剂 微光学元件 微细加工

分 类 号： [O633.14]

领　　域： [理学] [理学]