作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室

出　　处： 《红外与毫米波学报》 2004年第1期6-10,共5页

摘　　要： 利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实验结果进行了分析和讨论 ,结果表明 。 Antireflective subwavelength grating was designed by using rigorous coupled wave approach (RCWA). The square-pillar grating was fabricated by plasma assisted etching. The grating has very good antireflective characteristics, and the values of testing parameters approximately equal to the designed data. It indicates that plasma assisted etching is valid to fabricate deep groove grating. The experimental results show that the critical periodic point as a function of refractive index is very important to fabricate the antireflective aubwavelength grating.

关 键 词： 亚波长 抗反射光栅 严格耦合波理论 红外技术 等离子体辅助刻蚀 光栅参数 衍射光学元件

领　　域： [电子电信]