作 者: ; ; ; (许金泉); (李志章); (眭润舟); (楼宏青);
机构地区: 华东船舶工业学院材料科学与工程学院
出 处: 《中国有色金属学报》 1999年第S1期
摘 要: 在温度为1273 ~1423 K、时间为0 .9 ~7 .2 ks 和0 .1 MPa 压应力的条件下进行了Si3N4/Ti/Ni/Ti/Si3N4 的部分瞬间液相连接, 结合SEM, EDS 和XRD 测试结果, 分析了连接温度和时间对接头常温四点弯曲强度和断裂方式的影响。通过用反应层厚度来表征界面强度, 用σResθmax 来评价近界面陶瓷断裂, 用σResθ= 0 来评价界面断裂, 建立了界面强度、陶瓷强度和残余应力与接头强度和三种断裂类型的关系模型。
分 类 号: [TG407]
领 域: [金属学及工艺]