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磁控溅射W/DLC/W-S-C复合膜的制备及其性能(英文)

作  者: ; ; ; (朱敏); (侯惠君); (林松盛); (佟鑫);

机构地区: 华南理工大学材料科学与工程学院

出  处: 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 2015年第9期

摘  要: 采用磁控溅射方法制备W/DLC/W-S-C复合膜,研究不同WSx含量对复合膜结构和结合强度的影响;采用球-盘式摩擦试验仪研究复合膜在大气环境以及氮气环境下的摩擦磨损性能。结果表明:复合膜结构致密,在非晶类金刚石基质中存在WSx和WCx化合物。合适的WSx含量有利于提高复合膜的膜/基结合强度。在大气环境下,随着C含量的增加复合膜的耐磨性能提高,其摩擦因数在0.15~0.25之间;在氮气环境下,随着WSx含量的增加复合膜的耐磨性能提高,其摩擦因数在0.03~0.10之间。

关 键 词: 复合膜 磁控溅射 结合强度 摩擦因数

分 类 号: [TB383.2]

领  域: [一般工业技术]

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相关机构对象

机构 广东外语外贸大学
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机构 中山大学
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