作　　者： ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ;

机构地区： 广西大学物理科学与工程技术学院

出　　处： 《中国原子能科学研究院年报》 2009年第0期

摘　　要： <正>实验采用系列相关化合物对182Hf加速器质谱(AMS)测量中主要干扰182W的离子源干扰引出形式进行了系统、全面的调查。结果表明:182Hf的AMS测量中,182W干扰来源有多种,182WF5只是其中的一部分,更多的是与O、Br、Cu、N等元素的相关同位素结合成与182HfF5质量数相同而产生的干扰。所以,降低HfF4样品中O、Br、Cu、N等元素含量是降低182Hf探测限的关键。更多还原

关 键 词： 干扰来源 离子源

分 类 号： [O572.212]

领　　域： [理学] [理学]