作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 广东工业大学材料与能源学院

出　　处： 《热加工工艺》 2003年第6期11-13,共3页

摘　　要： 研究了各种氧化工艺对真空电弧沉积 Ti N薄膜组织与性能的影响。结果表明 ,Ti N薄膜在 4 0 0℃于不同时间整体氧化时 ,表面 Ti液滴和 Ti N相发生不同程度的氧化 ,转变成具有金红石型的 Ti O2 薄膜 ,提高了膜层表面的致密性 ,而 Ti N薄膜的整体组织结构未发生较大改变。随着氧化时间的延长 ,在 4 0 min后硬度才略有下降 ,内应力下降 ,膜层的结合力提高 ,并具有较好的耐磨性能。 The influence of oxidation processing on microstructure and properties of TiN films deposited by vacuum arc was studied . The results show that drops of Ti and TiN phase take place oxidation, and transform to rutile TiO_2 film, which improves compactability of the films, but the change of the whole microstructure of film is no obvious relatively when the samples oxidate at 400℃. Along with oxidation time prolongs, hardness will not reduce slightly until 40 min, but removing inner stress, and increasing cohesion and wear resistance.

关 键 词： 真空电弧沉积 薄膜 氧化工艺 组织与性能

领　　域： [金属学及工艺] [金属学及工艺] [金属学及工艺] [金属学及工艺]