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尼龙1212/蒙脱土体系在剪切流场中蒙脱土片层剥离机理的研究
Studies on the Exfoliating Mechanism of Montorillonite Slice Layer in Nylon 1212/Montorillonite System Under Shear-fluidic Field

作  者: ; ; ; ;

机构地区: 上海交通大学化学化工学院

出  处: 《高等学校化学学报》 2003年第10期1907-1910,共4页

摘  要: 在聚合物熔体插层蒙脱土 ( MMT)过程中 ,流场的作用使得蒙脱土晶粒表面的片层在超过临界值时发生弯曲 ,与内核之间形成一楔状 ,并进一步发生断裂 ,形成剥离结构 .结果表明 ,合适的流场强度是得到适当大小的片状粒子的关键 . There is a critical value(velocity gradient X viscosity) at which the shear-induced plane compresion causes the slices of montmorillonite(MMT) to buckle and produces a cuneate space between the outside slice and the crystallite during the melt intercalation. The outest slice can be broken when it bends exceed the minimal curvature radius and yields exfoliation further. The appropriate intensity of flow is the key point of getting suitable slice configuration in the nano-composition process.

关 键 词: 尼龙 蒙脱土 剪切流场 剥离机理 纳米复合材料 片状粒子

领  域: [理学] [理学] [一般工业技术]

相关作者

作者 曾宪杰

相关机构对象

机构 华南理工大学工商管理学院

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