作 者：
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机构地区：
中国石油大学华东数学与计算科学学院应用物理系
出 处：
《河南大学学报（自然科学版）》
2002年第4期49-52,共4页
摘 要：
采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量x的 (Ni79Fe2 1) x(Al2 O3) 1-x纳米颗粒膜样品 .研究了电阻率 ρ与体积百分比x的关系 ,测出了逾渗阈值xρ,并对样品的巨磁电阻效应和霍尔效应进行了研究 .发现存在三个区间 :(1)当x <48%时 ,在这个区间只有巨磁电阻效应 ,没有霍尔效应 ;(2 )当 48% 6 0 %时 ,在这个区间只有霍尔效应 ,没有巨磁电阻效应 .
A series of (Ni 79Fe 21) x-(Al 2O 3) 1-x nano-granular films have been fabricated on glass substrates by magneto sputtering technique. The percolation threshold x ρ of about 60% has been measured through the curve of ρ and x v. The giant magnetoresistance and hall effect have been studied at room temperature . (Ni 79Fe 21) x-(Al 2O 3) 1-x nano-granular films will exhibit both GMR and GHE, and both effects increase with the decrease of x v in the region 0.480.60,and only GMR effect for x v<0.48.
关 键 词：
磁控溅射
纳米颗粒膜
逾渗阈值
巨磁电阻效应
霍尔效应
三个区间
领 域：
[理学]
[理学]
