作　　者： ; ; ;

机构地区： 中国科学院西安光学精密机械研究所

出　　处： 《计算物理》 2003年第1期21-24,共4页

摘　　要： 　轰击金属靶面的高能电子束束斑大小,是决定微束斑X射线源最终X射线束斑尺寸的关键因素之一.当LaB6晶体阴极发射电流为60μA时,采用5点不等距有限差分法(FDM)计算了整个仪器内旋转对称电子光学系统电场的分布,并利用Runge Kutta法从LaB6阴极发射端面开始追踪了电子束在整个系统内部的运动,经计算,聚焦在靶面上的电子束斑直径约为600～1000nm. The focal dimension of the Xray source with microbeam is in proportion to the size of the ebeam focused on the target surface. The finite difference method is utilized to calculate the distribution of the electricalfield intensity. The track of the electronbeam is traced by using the RungeKutta method within the whole symmetrical system. As a result, the diameter of the electron beam focus is 06-10?μm while the total high brightness emission of the LaB6 crystal cathode is 006-03?mA.

关 键 词： 电子束 运动轨迹 计算 有限差分法 最佳因子 微束斑 射线源 法 电子光学

领　　域： [机械工程] [理学] [理学] [机械工程] [理学] [理学]