作 者：
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(中川一夫）;
(藤原裕文）;
机构地区：
华南师范大学
出 处：
《光学学报》
1995年第6期
摘 要：
发展了一种新型相位共轭干涉法可用于简单方便地测定介质三次非线性极化率（χ（３））的相位。文中用这种方法研究了二种染料掺杂高分子膜χ（３）的相位，发现由饱和吸收效应产生的χ（３）的相位，当波长远离吸收峰时，由─π／２趋于─π，而由光到漂白效应产生的χ（３）的相位都落在─１７／１８π附近。
关 键 词：
光学相位共轭干涉
饱和吸收
三次非线性极化率
染料掺杂高分子材料
分 类 号：
[O437]
领 域：
[机械工程]
[理学]
[理学]
