作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 华南师范大学物理与电信工程学院物理系

出　　处： 《机电工程技术》 2002年第6期49-50,共2页

摘　　要： 椭圆偏振测量技术特别适于测量纳米级薄膜的厚度和折射率。本文介绍一种新型的反射消光型椭偏薄膜厚度自动测量仪的测量原理和仪器系统设计方法,详细分析了等幅椭圆偏振光的获取方法、椭偏参数测量方法以及仪器结构方面的设计问题,并报道了仪器样机已达到的性能指标。 The measuring technique with elliptic polarization is ingeneral used to measuring thickness and refractive index of nanome-ter film. The measuring principle and design of instrument systemon a new type automatic instrument of measuring thin film bymethod of reflection, extinction and elliptic polarization are intro-duced in the paper. Problems of design for elliptie polarization lightof equal amplitude, structure of instrument and measuring method ofelliptic polarization parameters Ψ ,Δ are analyzed in detail. Thefeatures of our specimen instrument are reposed.

关 键 词： 纳米薄膜 厚度测量 椭圆偏振

领　　域： [机械工程] [机械工程] [机械工程]