帮助 本站公告
您现在所在的位置:网站首页 > 知识中心 > 文献详情
文献详细Journal detailed

超薄Ti膜介电函数的尺寸效应

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 中国科学院金属研究所

出  处: 《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》 2001年第10期1099-1104,共6页

摘  要: 超薄Ti膜介电函数与薄膜厚度及外加电场频率的关系表明:超薄Ti膜的介电函数具有尺寸效应;超薄Ti膜介电函数实部随外加电场频率的增大而减小,对比超薄Ti膜直流电导率的实验结果,超薄薄膜形成过程中结构特征变化是导致介电函数尺寸效应的主要原因。

关 键 词: 超薄钛膜 介电函数 尺寸效应 薄膜厚度 电磁频率 直流电导率 电磁特性

领  域: [理学] [理学]

相关作者

作者 孙树秋
作者 陈景侦
作者 林海杰
作者 刘晓瑭
作者 林永升

相关机构对象

机构 华南理工大学聚合物新型成型装备国家工程研究中心
机构 中山大学
机构 华南农业大学

相关领域作者

作者 刘广平
作者 彭刚
作者 杨科
作者 陈艺云
作者 崔淑慧